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多元多层纳米膜技术

发布时间: 2006年04月03日 10:53:49

发布IP: 222.182.69.216

商家: 商务伙伴?
重庆科学技术咨询中心

最后更新: 2006年04月26日 14:23:02

该技术是在离子镀技术上发展起来的一项镀膜技术。在真空室内采用真空弧光放电方法激发阴极材料，形成原子和离子。在电场作用下，原子和离子束高速轰击作为阳极的工件表面。与此同时向真空室内通入反应气体，即可在工件表面形成镀层。交替激发不同阴极材料（如钛、铬等金属），可以获得多元多层纳米膜，如TiN/CrNTiN/CrN等。技术指标渗层厚度：2~5μm。渗层硬度：1300~1800 HV

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