该技术原理如下：在真空室内采用真空弧光放电技术，在阴极材料表面产生弧光，使阴极材料蒸发，形成原子和离子。在电场作用下，原子和离子束高速轰击作为阳极的工件表面。与此同时向真空室内通入反应气体，即可在工件表面形成具有优良性能的镀层。阴极材料（也称靶材）一般采用钛、铬、锆等金属，常用反应气体为氮气和碳氢化合物气体。获得的镀层有TiN、CrN、TiC、ZrN等。 真空化学镀技术具有下列优点： （1） 可获得高硬度的镀层，镀层摩擦系数小，耐磨性高。 （2） 镀层化学稳定性好，抗高温氧化，耐蚀性好。 （3） 镀层美观。可获得如18K金的金黄色色泽及其它彩色膜。 （4） 镀层与基材结合力高。其结合力要高于传统的磁控溅射、真空蒸镀等涂层，镀层不易剥落。 （5） 生产过程对环境无污染。镀层形成速度快，节电、节水。