该设备是基于真空中的高频激励而产生的辉光放电获得化学活性微粒与被刻蚀材料起化学反应产生辉发性物质进行刻蚀的。其主要包括真空系统及气路控制系统、电器自动控制及计算机程序、刻蚀工艺软件，RF射频源及MFC质量流量计等。具有刻蚀速率快、精度高等优点。目前国内尚无此类仪器的生产，因此该产品的开发填补了国内空白，达到国际同类产品水平。
主要技术指标：
1．极限真空度5X10-6 托，工作真空度10-3―10-2托。
2．样品加热温度-20℃―30℃，可测量、调控，精度±2%
3．RF电源f=13.56MHz,最大输出功率2KW。
4．聚焦磁场2KGs，聚焦线圈200匝，1A
5．气体流量可控、可调、精度±1%。
| 应用范围 | | | 应用范围:该设备是微电机系统制造生产上的关键设备。可广泛应用于汽车、航天、医疗、环保、通信等领域。此外，该设备可用于传统的半导体生产行业中，从而带动相关电子工业的繁荣。 | | 市场前景 | | 在发达国家，随着微电机系统的大规模应用，该类型的刻蚀机也相应的得到迅速发展。在我国，微电机系统还刚刚起步，随着我国大力发展高新技术产业，微电机系统必将得到迅速的发展；此外，在改造传统工业中，该产品具有取代传统的半导体工艺，从而引发一场新的技术革命的趋势。因此，其巨大的经济效益将不可诂计。
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